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我們的優(yōu)勢｜離子束刻蝕NANO-MASTER的離子束刻蝕系統(tǒng)有很強(qiáng)的適應(yīng)性，可以根據(jù)不同的應(yīng)用建立不同的結(jié)構(gòu)，不同的樣品臺和離子源配置可實(shí)現(xiàn)不同的應(yīng)用范圍。系統(tǒng)中的樣品臺可實(shí)現(xiàn)正負(fù)90°傾斜、旋轉(zhuǎn)、水冷和背氦冷卻。NM成熟的技術(shù)可控制基片溫度在50℃以內(nèi)。通過傾斜和旋轉(zhuǎn)，深溝可切成斜角，通過控制側(cè)壁輪廓和徑向可提高均勻性，不同的構(gòu)造不同的應(yīng)用可選擇不同的選配項(xiàng)，也可增加濺射實(shí)現(xiàn)刻蝕之后的涂覆保護(hù)。應(yīng)用十分廣泛。NANO-MASTER的離子束刻蝕在行業(yè)中非常有競爭力，它憑什么可...

NANO-MASTERNLD-4000型等離子增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)可以提供高品質(zhì)的薄膜沉積，通過配套ICP離子源系統(tǒng)可以支持PEALD和T-ALD等廣泛應(yīng)用。眾多的優(yōu)勢配置，使得NLD-4000型系統(tǒng)具有許多優(yōu)勢：√超高的薄膜均勻性√良好的粘附力√超凈的沉積（高真空支持）√出色的工藝控制√高度的可重復(fù)性（計(jì)算機(jī)全自動工藝控制）√易使用（可直接調(diào)用編好的工藝程序）√運(yùn)行可靠（所有核心組件均帶有保護(hù)）√低維護(hù)（完整的安全互鎖）√高、低溫基片樣品臺√小的占地面積26”x44”√全自動...

隨著光學(xué)鍍膜設(shè)備的技能開展不斷改造，而硬質(zhì)薄膜的設(shè)計(jì)向著多元化、多層膜的方向開展。變成現(xiàn)在公司選擇的鍍膜技能。今天咱們經(jīng)過專家剖析后，給予具體作答。鍍膜機(jī)的正常操作辦法應(yīng)當(dāng)參閱操作手冊的指示操作。不過大致的操作程序，咱們簡略的說一下吧：1.查看光學(xué)鍍膜設(shè)備各操作操控開關(guān)是不是在"關(guān)"位置。2.翻開總電源開關(guān)，光學(xué)鍍膜設(shè)備送電。3.低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，發(fā)動升鐘罩閥，鐘罩升起。4.裝置固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在滾動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱...

隨著原子層沉積技術(shù)與其他先進(jìn)技術(shù)不斷融合以及人們對原子層沉積設(shè)備的不斷改進(jìn)，諸如“等離子體增強(qiáng)原子層沉積技術(shù)”、“空間式原子層沉積技術(shù)”、“流化床原子層沉積技術(shù)”等新型原子層沉積技術(shù)逐漸出現(xiàn)并在一定程度上有效解決了傳統(tǒng)熱原子層沉積技術(shù)所面臨的諸多難題。在過去二十多年，等離子體增強(qiáng)原子層沉積技術(shù)發(fā)展迅速。通過巧妙設(shè)計(jì)等離子體引入方式，人們已經(jīng)設(shè)計(jì)出各種等離子體增強(qiáng)原子層沉積設(shè)備。從文獻(xiàn)報(bào)道來看，針對太陽能光伏領(lǐng)域的應(yīng)用，一套成熟的空間式原子層沉積設(shè)備需保證每小時(shí)超過3000片1...

我們大部分人都知道等離子有清洗活化的功能，今天我們來探討下等離子去膠機(jī)。等離子去膠機(jī)反應(yīng)機(jī)理：在干法等離子去膠技術(shù)中，氧是首要腐蝕氣體。它在真空等離子去膠機(jī)反響室中受高頻及微波能量效果，電離發(fā)生氧離子、游離態(tài)氧原子O*、氧分子和電子等混合的等離子體.等離子去膠操作方法：將待去膠片插入石英舟并平行氣流方向，推入真空室兩電極間，抽真空到1.3Pa，通入恰當(dāng)氧氣，堅(jiān)持真空室壓力在1.3-13Pa，加高頻功率，在電極間發(fā)生淡紫色輝光放電，經(jīng)過調(diào)理功率、流量等技術(shù)參數(shù)，可得不一樣去膠速...

微波等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污潮物、油污或油脂。今天，我們來看看微波等離子清洗機(jī)操作注意事項(xiàng)與應(yīng)用吧。1、正確設(shè)置等離子設(shè)備的運(yùn)行參數(shù)，按時(shí)設(shè)備使用說明書來執(zhí)行。2、保護(hù)好等離子體的點(diǎn)火裝置，以確保等離子清洗機(jī)可以正常的啟動。3、等離子設(shè)備在啟動前的準(zhǔn)備工作，要對相關(guān)的人員進(jìn)行培訓(xùn)，按照要求嚴(yán)格執(zhí)行各項(xiàng)操作...

我們的優(yōu)勢｜NRE-4000型RIE-HCP系統(tǒng)NANO-MASTERNRE-4000型RIE-HCP系統(tǒng)，用于高速刻蝕硅、SiO2和Si3N4基片，通過配套HCP高密度中空陰極等離子源，系統(tǒng)可以支持RIE和RIE-HCP應(yīng)用，提供廣泛的應(yīng)用。眾多的優(yōu)勢配置，使得NRE-4000型系統(tǒng)具有許多優(yōu)勢：?超高的薄膜均勻性?良好的粘附力?超凈的沉積（高真空支持）?出色的工藝控制?高度的可重復(fù)性（計(jì)算機(jī)全自動工藝控制）?易使用（可直接調(diào)用編好的工藝程序）?運(yùn)行可靠（所有核心組件均帶有...

試驗(yàn)真空環(huán)境模擬為了考核和研究某些活動部件、伸展機(jī)構(gòu)的干摩擦、冷焊性能和研究材料在真空條件下的升華、重量損失、老化等效應(yīng)，需要在更高的真空度和其他空間環(huán)境因素的組合下進(jìn)行試驗(yàn)。大家都知道現(xiàn)在真空系統(tǒng)在各個(gè)行業(yè)的應(yīng)用越來越廣泛，下面我們?yōu)榇蠹医榻B一下現(xiàn)在常用的熱真空系統(tǒng)在熱真空試驗(yàn)設(shè)備中的應(yīng)用吧。熱真空系統(tǒng)應(yīng)用于半導(dǎo)體、集成電路、光電器件的制造工藝過程，是集成電路設(shè)備中的關(guān)鍵設(shè)備之一；它也用于各種其它鍍膜設(shè)備和真空應(yīng)用設(shè)備中。真空系統(tǒng)在熱真空系統(tǒng)中的應(yīng)用熱真空系統(tǒng)是指在真空和一...